小型濺射儀利用高能離子束轟擊靶材料，使其原子或分子從靶材料上解離，并沉積在基板表面上，形成覆蓋層。通過調(diào)節(jié)離子束的能量和強度，可以實現(xiàn)不同性質(zhì)的薄膜制備。這種技術(shù)被廣泛應用于材料表面的改性和制備高質(zhì)量薄膜材料。主要用于制備薄膜材料，如金屬薄膜、氧化物薄膜等。這些薄膜具有良好的準晶結(jié)構(gòu)和化學性質(zhì)，廣泛應用于光電子、信息技術(shù)、磁學、材料科學等領(lǐng)域。
 

　　在選購小型濺射儀時，可以考慮以下幾個因素：
 

　　1.薄膜材料種類：不同的型號適用于不同種類的薄膜材料，如金屬薄膜、氧化物薄膜、半導體材料等。根據(jù)實際需求選擇適合的儀器。
 

　　2.濺射靶材：濺射靶材是產(chǎn)生薄膜主體的關(guān)鍵因素，可以選擇在市場上常見的金屬、合金、化合物等靶材。還需要考慮到靶材的尺寸、形狀以及純度等因素。
 

　　3.濺射室尺寸：通常有不同尺寸的濺射室，選擇時需要考慮所需薄膜尺寸和樣品尺寸，確保儀器可以容納并制備所需的薄膜。
 

　　4.濺射能源：可以根據(jù)不同需求使用直流(DC)或者射頻(RF)濺射能源，選擇時需要考慮使用的材料特性以及實驗條件。
 

　　5.控制系統(tǒng)：控制系統(tǒng)應該易于操作和控制，具有可調(diào)節(jié)的濺射參數(shù)(如功率、流量等)，同時具備安全保護功能。
 

　　6.附加功能：一些可能配備真空系統(tǒng)、加熱裝置、旋轉(zhuǎn)樣品臺等附加功能，根據(jù)實際需求選擇是否需要這些輔助設(shè)備。

  

　　小型濺射儀的操作使用步驟：
 

　　1.將待濺射的樣品固定在濺射靶上。
 

　　2.將濺射靶放入濺射室，關(guān)閉室門，并確保密封性良好。
 

　　3.打開濺射儀的電源開關(guān)。
 

　　4.選擇所需的濺射材料和工藝參數(shù)，并設(shè)置在控制面板上。
 

　　5.打開氣體供應系統(tǒng)，將惰性氣體(如氬氣)導入濺射室中，以確保稀薄的工作氣氛。
 

　　6.打開真空泵，以抽取濺射室內(nèi)的空氣，創(chuàng)建真空環(huán)境。
 

　　7.觀察真空計的示數(shù)，當達到所需的真空度后，可以開始濺射過程。
 

　　8.按下開始按鈕，濺射過程開始。
 

　　9.完成濺射后，關(guān)閉濺射電源和氣體供應系統(tǒng)。
 

　　10.打開室門，取出濺射靶，將樣品取下。